TOP > 用途から探す-研磨ソリューションのMipox > 研磨事例-酸化物半導体関連

研磨事例-酸化物半導体関連

酸化物半導体関連加工に
求められる要件

LT(LiTaO3)、LN(LiNbO3)に代表される酸化物半導体は、SAWデバイスを代表とする高周波フィルターの材料として著名であり、スマートフォン等の通信機器には不可欠な素材(デバイス)として、その生産量・出荷量共に急増している材料です。Mipoxはこの将来有望なSAWデバイス市場に向けた取組みとして、従来のSAWデバイスが有する欠点(温度変化によって通過帯域が移動してしまう)を補う事が出来、温度安定性に優れた次世代SAWデバイスの実現に不可欠とされる「複合基板技術」に特化した対応を行っております。 LT、LNと接合する各材料(素材)に対し、複合化(接合)に耐える高精度表面を創出します。

材料(材質)名:
LiTaO3(LT)、LiNbO3(LN)と接合を行う各種基板 等

酸化物半導体

 

WEBからのお問合せはこちら