サイズダウン加工

各ウェーハの状態や用途に合わせ、適切な切断方法を選択。低ダメージかつ高品位なサイズダウン加工を提供いたします。

ウェーハのサイズダウン加工

デバイス付シリコンウェーハをはじめ、SiCウェーハ等の化合物半導体にも対応しております。
また、異形ウェーハ(ハーフインチウェーハ、チップ形状)などの特殊規格サイズダウン加工なども承っております。

研究開発用途の小ロットから、中量産ウェーハのサイズダウン加工まで、幅広く対応しております。

【サイズダウン加工方式】
・レーザー切断
・ウォータージェット切断
・砥石研削方式(ブレード、軸付き砥石、コアドリル方式等)
・その他


サイズダウン後の面取り加工

サイズダウン加工後のウェーハエッジ・ノッチ部は、何らかの切断痕が多く残存しており、非常に破損しやすい状態になっています。

弊社では、独自の研磨フィルム方式による面取り加工工法を採用。ウェーハに対し低ダメージかつ、適切なエッジ形状とエッジ部表面粗さに調整する事により、サイズダウンウェーハ運用における歩留まり改善に大きく寄与いたします。

ノッチ研磨例

研磨前:切断によりチッピングが発生したウェーハ

研磨後:強度向上のために面取りを作成

テラス加工

ウェーハに対し、低ダメージである研磨フィルム式エッジ研磨工法の特徴を活用し、ウェーハテラス部の研磨加工も承っております。

GaNonSiなど膜付きウェーハのエピ層へダメージを与えることなく不要膜(不要部分)の除去、鏡面化が可能。同ウェーハを用いたウェーハ製造ラインの歩留まり改善に貢献いたします。

テラス作成例
最高級品質の研磨によりRa5nm以下を作成可能
最高級品質の研磨によりRa5nm以下を作成可能
(Siの場合)

プロセスフロー

ウェーハの受け入検査から、表面保護(レジスト塗布処理)、切断(くりぬき加工)、エッジ研磨加工、洗浄、検査まで、ワンストップで対応しております。

受け入れ検査

レジスト塗布

くりぬき加工

レーザーマーク加工

エッジ研磨加工

レジスト剥離

洗浄

出荷前検査・出荷

研磨加工についてのお問い合わせ

研磨加工でお困りのことがあれば、お気軽にご相談ください。高精度研磨加工を得意とするMipoxが課題に適した解決方法をご提案いたします。

Mipoxの事例・技術紹介 研磨事例

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