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名古屋大学との共同研究成果が論文として掲載されました。

2023年8月10日
ニュース

共同研究「半導体製造の生産性を向上させるキラー欠陥自動検査システムの開発」

東海国立大学機構名古屋大学 原田俊太准教授(未来材料・システム研究所)との共同研究成果をまとめた論文が掲載されました。パワーデバイスSiCウエハの偏光観察による結晶欠陥評価技術に関する報告です。


掲載論文(英名):Non-destructive identification of edge-component burgers vector of threading dislocations in SiC wafers by birefringence imaging

 論文URL: https://www.sciencedirect.com/science/article/abs/pii/S0925963523005174?via%3Dihub
※2023年9月13日まで無料で公開されます。

著者:Shunta Harada, Yasutaka Matsubara, Kenta Murayama


共同研究「半導体製造の生産性を向上させるキラー欠陥自動検査システムの開発」は、国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)の「官民による若手研究者発掘支援事業」に採択されております。

  

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